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フォトレジスト

フォトレジストの説明

Japanese Etymology From English photoresist. Pronunciation IPA(key): [ɸo̞to̞ɾe̞ʑisɨᵝto̞] Noun フォトレジスト • (fotorejisuto) photoresist これらの工(こう)法(ほう)でフォトレジストは回(かい)路(ろ)形(けい)成(せい)プロセスで用(もち)いられ,通(つう)常(じょう)は加(か)工(こう)後(あと)剥(はく)離(り)されてPWB(プリントきばん)上( うえ)には残(のこ)らないプロセス材(ざい)料(りょう)である。Korera no kōhō de fotorejisuto wa kairo keisei purosesu de mochiirare, tsūjō wa kakō ato hakurisarete purinto-kiban ue ni wa nokoranai purosesu zairyō de aru.With these techniques, photoresist is used during the circuit formation process, and is usually removed after processing so that no material from the process remains on the PWB.

フォトレジスト（英語：photoresist）とは、フォトリソグラフィにおいて使用される、光や電子線等によって溶解性などの物性が変化する組成物である。物質の表面に塗布され、後に続くエッチングなどの処理から物質表面を保護することから、「レジスト」 (resist) の名がある。しかしながら、現在では、感光性を有し、画像様露光・現像によりパターニングを行って表面に画像層を形成することができる物質であればフォトレジストと呼ばれ、必ずしも保護の働きがあるとは限らない。